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Beschreibung

Diese horizontalen, widerstandsbeheizten Sinteranlagen kommen in vielen Anwendungsbereichen zum Einsatz, da sie sowohl mit Vakuum als auch in inerter Atmosphäre betrieben werden können. Der Hauptanwendungsbereich ist das Entbindern und nachfolgendes Sintern von Keramiken, Komposit-Werkstoffen oder pulvermetallurgischen Bauteilen. Sie werden insbesondere für Hochtemperaturprozesse eingesetzt wie z. B. Karbonisieren, Rekristallisierung, Siliciuminfiltration, Nitridierung (Bildung von Si₃N₄), Vakuumsintern oder Metallisierung. Optional können diese Anlagen als Kombi-Prozess mit einer Entbinderung/Entwachsung ausgestattet werden. Weiterhin steht eine Schnellkühlung zur Verfügung, um die Kühlzeiten signifikant zu reduzieren.

Funktionen

Sintern in Vakuum, Partialdruck, Relativdruck
Entbinder und/oder Entwachsen als Kombiprozess
Hohe Flexibilität bei der Prozessoptimierung und Gestaltung
Umfangreiche Datenauswertung
Prototypenfertigung, Serienfertigung
Ausführung: horizontal mit Schwenktür
Temperaturmessung mittels Pyrometer

Hauptspezifikationen

Arbeitstemperatur bis zu 2200°C
Vakuum: 5x10^-² mbar(a)
Ofenatmosphäre: Ar / N₂ / Formiergase
Leichte Zugänglichkeit

Widerstandsheizung
Doppelwandiger, wassergekühlter Vakuumbehälter
Umfangreiche benutzerfreundliche Steuerung
Siemens S7 und WinCC

Optionen

Arbeitstemperatur bis zu 2400°C
verschiedene Gasmischungen regelbar

Entbinderung / Entwachsen
Schnellkühlung mit interner Gaszirkulation

FH W Standardtypen	Breite Heizleiter [mm]	Höhe Heizleiter [mm]	Länge Heizleiter [mm]	Nutzvolumen [dm³]	Heizleistung [kW]^*1
FH W 9	250	270	330	9	35
FH W 90	620	550	835	90	80
FH W 250	500	710	1300	250	200
FH W 400	900	700	1000	400	240
FH W 600	1000	800	1400	600	400
FH W 1450	1250	1250	2000	1450	550
FH W 4000	1400	1500	4000	4000	1000
FH W 7000	2570	1900	3400	7000	1000
FH W 10000	2400	2500	2900	10000	1000