CVD / CVI 气相沉积炉 与 气相渗透炉
型号 CVI

简介
热诱导化学气相渗透(CVI,chemical vapor infiltration)是一种与CVD相关的技术,用于将基体材料渗透到多孔或纤维状的预制体中,以制造具备优异机械性能、耐腐蚀性、抗热震性以及低残余应力的复合材料部件。
该技术可用于生产各种尺寸和成分的复杂结构件。通过切换多个气体入口,在开始沉积基体材料之前,可先在多孔或纤维预制体表面形成多层界面涂层。

功能
- 在大气压(AP-CVD)或低压(LP-CVD)条件下进行涂层
- 在工艺优化和设计方面具有高度灵活性
- 数据分析功能强大
- 支持原型制造和批量生产
- 结构形式:底部进料式
-
通过热电偶和高温计进行温度测量

主要技术参数
- 应用温度可达 2200 °C
- 多区加热系统
- 旋转工作台
- 废气后处理系统
- 副产物的可控沉积与回收处理
- 用于 SiC、Si₃N₄、BN 和 AlN 的气体制备与气相沉积
- SiC: CH3SiCl3 → SiC + 3HCl
- Si3N4: 3SiCl4 + 4NH3 → Si3N4 + 12HCl
- BN: BCl3 + NH3 → BN + 3HCl
- AlN: AlCl3 + NH3 → AlN + 3HCl

选项
- PyC 涂层和/或渗透应用
- MTS 自动补充站
- HCl / H₂ 传感器
- 冷却水供应系统
CVI 标准型号 |
可用尺寸 (Ø/h) [mm] |
可用容积 [dm3] |
最大装载量 [kg] |
最高温度 [°C] |
最大加热功率 [kW] |
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FS W 500-CVI | 1000 x 600 | 500 | ≤ 450 | 1600 | 300 |