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CVD / CVI 气相沉积炉 与 气相渗透炉

型号 CVI

CVD  / CVI 气相沉积炉
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CVD / CVI 气相沉积炉

简介

热诱导化学气相渗透(CVI,chemical vapor infiltration)是一种与CVD相关的技术,用于将基体材料渗透到多孔或纤维状的预制体中,以制造具备优异机械性能、耐腐蚀性、抗热震性以及低残余应力的复合材料部件。

该技术可用于生产各种尺寸和成分的复杂结构件。通过切换多个气体入口,在开始沉积基体材料之前,可先在多孔或纤维预制体表面形成多层界面涂层。

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主要技术参数

  • 应用温度可达 2200 °C
  • 多区加热系统
  • 旋转工作台
  • 废气后处理系统
  • 副产物的可控沉积与回收处理
  • 用于 SiC、Si₃N₄、BN 和 AlN 的气体制备与气相沉积
  • SiC: CH3SiCl3 → SiC + 3HCl
  • Si3N4: 3SiCl4 + 4NH3 → Si3N4 + 12HCl
  • BN: BCl3 + NH3 → BN + 3HCl
  • AlN: AlCl3 + NH3 → AlN + 3HCl
CVI
标准型号
可用尺寸
(Ø/h) [mm]
可用容积
[dm3]
最大装载量
[kg]
最高温度
[°C]
最大加热功率
[kW]
FS W 500-CVI 1000 x 600 500 ≤ 450 1600 300
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