CVD / CVI системы покрытия и инфильтрации
Тип CVI
Описание
Термически индуцированная инфильтрация из газовой фазы (CVI — chemical vapor infiltration) — это технология, связанная с CVD, предназначенная для проникновения матричного материала в пористые или волокнистые заготовки с целью получения композитных компонентов с улучшенными механическими свойствами, устойчивостью к коррозии, термошокам и низкими остаточными напряжениями.
Могут изготавливаться сложные формы различных размеров и составов. За счёт переключения между несколькими газовыми входами возможно нанесение многослойных межфазных покрытий на пористые или волокнистые заготовки до начала основного осаждения матрицы.
Функции
- Осаждение при атмосферном давлении ("AP-CVD") или при пониженном давлении ("LP-CVD")
- Высокая гибкость в оптимизации и разработке процессов
- Обширный анализ данных
- Производство прототипов и серийное производство
- Исполнение: загрузка снизу
- Измерение температуры с помощью термопары и пирометра
Основные характеристики
- Температура применения до 2200 °C
- Многозонный обогрев
- Вращающийся поворотный стол
- Обработка отходящих газов
- Контролируемое осаждение и переработка побочных продуктов
- Подготовка газа и осаждение из газовой фазы для SiC, Si₃N₄, BN и AlN
- SiC: CH3SiCl3 → SiC + 3HCl
- Si3N4: 3SiCl4 + 4NH3 → Si3N4 + 12HCl
- BN: BCl3 + NH3 → BN + 3HCl
- AlN: AlCl3 + NH3 → AlN + 3HCl
Опции
- Применение покрытий PyC и/или инфильтрация
- Автоматическая станция дозаправки для MTS
- Датчики HCl / H₂
- Система подачи охлаждающей воды
| CVI Стандартные типы | Полезные размеры (Ø/h) [mm] |
Полезный объем [dm3] |
Макс. загрузка [kg] |
Макс. температура [°C] |
Макс. мощность нагрева [kW] |
|---|---|---|---|---|---|
| FS W 500-CVI | 1000 x 600 | 500 | ≤ 450 | 1600 | 300 |
