Описание

Термически индуцированное осаждение из химической паровой фазы (CVD) — это мощный метод нанесения равномерных слоёв различных диэлектрических, полупроводниковых и металлических материалов в монокристаллической, поликристаллической, аморфной или эпитаксиальной форме на подложки малой или большой площади.

Типичными материалами для покрытия являются пиролитический углерод, карбиды кремния и нитриды бора. Использование синтетических прекурсоров обеспечивает чрезвычайно чистые покрытия, соответствующие требованиям полупроводниковой промышленности.

В зависимости от параметров процесса возможно получение широкого диапазона толщин покрытий — от одного или нескольких атомных слоёв до прочных защитных или функциональных покрытий толщиной от нескольких нанометров до сотен микрометров и даже до монолитных деталей толщиной в несколько миллиметров.