Description

Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) induit thermiquement est une méthode puissante permettant de déposer des couches uniformes de différents matériaux diélectriques, semi-conducteurs ou métalliques, sous forme monocristalline, polycristalline, amorphe ou épitaxiale, sur des substrats de petite ou grande surface.

Les matériaux de revêtement typiques incluent le carbone pyrolytique, les carbures de silicium et les nitrures de bore. L’utilisation de précurseurs synthétiques permet d’obtenir des revêtements d’une très grande pureté, répondant aux exigences de l’industrie des semi-conducteurs.

Selon les paramètres du procédé, une large gamme d’épaisseurs de couche est possible, allant de quelques couches atomiques à des revêtements protecteurs ou fonctionnels épais de quelques nanomètres à plusieurs centaines de micromètres, voire jusqu’à des pièces monolithiques de plusieurs millimètres d’épaisseur.