Системы покрытия CVD / CVI

Химическое газофазное осаждение и инфильтрация газовой фазы

Термически индуцированное газофазное осаждение (англ.: chemical vapor deposition, CVD) представляет собой высокоэффективную возможность осаждения равномерных покрытий из различных диэлектрических, полупроводниковых и металлических материалов (либо в моно- / поликристаллическом, аморфном, либо в эпитаксиальном состоянии) на малых или больших подложках.

Типичными материалами покрытия, кроме всего прочего, являются пиролитический углерод, карбид кремния, нитрид бора. Благодаря применению синтетического сырья, покрытия получаются сверхчистыми, они соответствуют всем типовым требованиям индустрии полупроводников.

В зависимости от параметров процесса, возможен широкий спектр значений толщины покрытий: от покрытий толщиной в один или несколько атомов до твердых защитных или функциональных покрытий толщиной от нескольких нанометров до сотен микрометров и, сверх того, до монолитных изделий толщиной в несколько миллиметров.

Термически индуцированная инфильтрация газовой фазы (англ.: chemical vapor infiltration, CVI) – это технология на базе метода CVD для инфильтрации матричного материала в пористых или волокнистых заготовках с целью изготовления изделий из композитных материалов с улучшенными механическими свойствами, коррозионной устойчивостью, устойчивостью к термоударам и малым внутренним напряжением.

Возможно изготовление сложных форм разнообразных размеров и составов. Благодаря переключению между несколькими газовыми отверстиями, можно покрывать пористые или волокнистые заготовки многослойными пограничными покрытиями перед началом фактического осаждения самой матрицы.

 

Метод CVD:

Газофазное осаждение для SiC, Si3N4, BN и AlN

SiC:                                               

CH3SiCl3 → SiC + 3HCl

Si3N4:

3SiCl4 + 4NH3 → Si3N4 + 12HCl

BN:

BCl3 + NH3 → BN + 3HCl

AlN:

AlCl3 + NH3 → AlN + 3HCl

Стандартные типы систем покрытия CVD / CVI

Стандартные типы систем покрытия CVD / CVI

CVD
Стандартные типы
Полезные габариты
(Ø/h) [мм]
Полезный объем
[дм3]
Макс. объем загрузки
[кг]
Макс. температура
[°C]
Макс. мощность нагрева
[кВт]
CVD 30 360 x 295 30 ≤ 25 1600 45
CVD 175 530 x 800 175 ≤ 100 1600 150
CVD 900 900 x 1400 900 ≤ 400 1600 300
CVD 2500 1400 x 1700 2600 ≤ 600 1600 500
magnify
Установка CVD– методы осаждений

magnify Установка CVD– методы осаждений

Тип: KCE®-FCT CVD 900

loading
loading